三氟化氮

                三氟化氮

                產品分類:電子氣體

                產品詳情

                產品分類: 三氟化氮
                名稱/化學式:三氟化氮/NF3
                包裝規格:44L、17L
                純度(%)及雜質(ppm):99.99%

                詳細參數

                 

                氣體標識
                名稱:nitrogen trifluoride 分子式:NF3
                氣體物化特性

                 

                分子量 熔點 沸點 臨界溫度 臨界壓力 液體密度 氣體密度 CAS號
                71.01 -206.8℃(1atm) -129℃(1atm) -39.3℃ 44.02atm(4.46MPa) 1554kg/m3(1atm沸點時) 2.95kg/m3(1atm 21℃) 7783-54-2

                  

                包裝 Cylinder47L)、Bundle(16×47L)、Bundle(25×47L)、 Y-Cylinder(470L)、 ISO)

                 

                鋼瓶容積 鋼瓶型號 閥門 鋼瓶壓力 氣體質量 危規號 UN編號 包裝分類 包裝標志

                47L、43.3L、40L、8L

                DOT-3AA、GB5099 CGA330、CGA640 9.0-13.0MPa 22kg、20kg、3.4kg 23016 2451 6

                  

                儲存及運輸
                三氟化氮氣瓶應儲存于陰涼、通風倉庫內。三氟化氮氣瓶應遠離火種、熱源、防止陽光直射,與還原劑、易燃或可燃物等分開存放。
                三氟化氮氣瓶在搬運時要輕裝、輕卸,防止鋼瓶及附件破損。
                三氟化氮氣瓶的運輸按危險品運輸。運輸時用氣瓶固定架將三氟化氮氣瓶固定好,用汽車公路運輸或用輪船集裝箱運輸。
                泄漏應急處理
                如遇有三氟化氮氣體泄露,工作人員要馬上撤離泄漏污染區,并盡可能采取措施阻止三氟化氮氣體的進一步泄露。如有工作人員中毒,應立即送往醫院救治。
                泄露現場要盡快處理,處理泄露現場的工作人員必須配戴必要的防毒面具,最好是自給正壓式呼吸器。泄露現場經檢測無危害氣體后方可進入工作人員,泄露容器必須經仔細檢查、維修或妥善處理好后方可繼續使用。
                三氟化氮氣體產品質量標準(QJ58-2007)

                 

                雜質 NF3≥99.995% Vol.% NF3≥99.99% Vol.% NF3≥99.98% Vol.% NF3≥99.9% Vol.%
                CF4 ≤20 Vol.ppm ≤40 Vol.ppm ≤100 Vol.ppm ≤500 Vol.ppm
                N2 ≤5 Vol.ppm ≤5 Vol.ppm ≤10 Vol.ppm ≤50 Vol.ppm
                O2+Ar ≤3 Vol.ppm ≤5 Vol.ppm ≤10 Vol.ppm ≤50 Vol.ppm
                CO2 ≤1 Vol.ppm ≤5 Vol.ppm ≤10 Vol.ppm ≤10 Vol.ppm
                H2O ≤1 Vol.ppm ≤1 Vol.ppm ≤1 Vol.ppm ≤1  Vol.ppm
                酸份(以HF計) ≤1 Vol.ppm ≤1 Vol.ppm ≤1 Vol.ppm ≤1  Vol.ppm
                SF6 ≤1 Vol.ppm ≤2 Vol.ppm ≤2 Vol.ppm ≤25 Vol.ppm
                N2O ≤1 Vol.ppm ≤5 Vol.ppm ≤10 Vol.ppm ≤10 Vol.ppm
                CO ≤0.5 Vol.ppm ≤5 Vol.ppm ≤10 Vol.ppm ≤10 Vol.ppm

                 

                 

                主要用途

                是用作氟化氫-氟化氣高能化學激光器的氟源,在h2-O2與F2之間反應能的有效部分(約25%)可以以激光輻射釋放出,所HF-OF激光器是化學激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體,對硅和氮化硅蝕刻,采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性,而且對表面無污染,尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中,三氟化氮具有非常優異的蝕刻速率和選擇性,在被蝕刻物表面不留任何殘留物,同時也是非常良好的清洗劑。用作高能燃料。

                工業化生產

                要有兩條路線,一是合成法:將氟化氫銨在鎳制反應器中加熱,氟氣、氮氣和氨通過分布器進入反應器直接氟化反應。二是電解法:在一定溫度下,電解熔融的氟化氫銨,電解過程中陽極產生三氟化氮,陰極產生氫氣。我國三氟化氮生產廠家的生產方法為上述兩種方法。

                 

                 

                 

                安徽旺山旺水特種氣體有限公司 
                ShangHai Shanglan New Energy Technology Co.,Ltd
                從事核磁共振加液氦、氦氣管車分裝、集裝格氦氣、鋼瓶氦氣、漂浮氦氣等服務;環氧乙烷分裝、環氧乙烷各種配比滅菌氣業務、環氧乙烷尾氣處理等業務;氘氣、氙氣、電子行業用氣;液態及鋼瓶氧氣、氮氣、氬氣、二氧化碳等高純氣體服務;實驗室氣體管道設計以及氣瓶檢驗服務等。 
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